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集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)

簡要描述:集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-07-10
  • 訪  問  量:647

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環(huán)保,化工,電子/電池

集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)

高產(chǎn)量

等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達兩個片盒站組合,用于到200 mm晶片的高產(chǎn)量工藝。

研發(fā)

三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。


SENTECH多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂,可適用于三至六個端口。可以使用多達兩個片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可以配備多種選擇。

用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。強大的控制軟件可用于工業(yè)領域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。


2-modules RIE cluster for etching of aluminum pads16-ports cluster for industrial application2-modules cluster of ICP-RIE SI 500 and cryogenic etcher SI 500 C with vacuum loadlock6-ports cluster with two SI 500 RIE modules, cassette station, and vacuum loadlock for research and Low temperature plasma deposition cluster6-port cluster with ICP-module,ALD-module, and cassette stationPlasma Cluster Configuration with dual chamber architecture6-port cluster with ICPCVD-module, 2x ICP module, and 2 cassette stations



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